伟易博

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    产品技术
    产业化应用中心
    iOptomic 系列原子层沉积系统
    iOptomic系列原子层沉积系统采用伟易博纳米设计的等离子源，反应腔设计，结合先进的ALD镀膜沉积技术，可为晶圆、玻璃、塑胶等各种异形的基底表面沉积保形和均匀的薄膜，搭配专业的膜系设计来实现不同产品的光学性能。该系统具备载物台旋转、兼容静/动态、等离子体等功能，适用于各类光学摄像头，AR/VR光学透镜及精密光学元器件的工业化批量生产。
    销售邮箱
    iacsale@mingxiangkjs.com
    产品特点
    优异的等离子体控制系统，灵活兼容Thermal ALD和PEALD工艺
    1
    多区加热系统确保反应温度的均匀性和稳定性，实现低温沉积均匀、优质的薄膜
    2
    精准制备TiO?、SiO?、Al?O?等光学薄膜，精准控制各层光学参数与厚度
    3
    AR产品：搭配后处理，可实现超低反射率<0.1%（可见光420~680nm波段）
    4
    高载片量：根据产品进行载具定制，提升效率与降低生产成本
    5
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